![派瑞林Parylene+生物相容性]()
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30.00/件
- 产品简介：派瑞林Parylene(中文称:派瑞林、聚对，或派拉伦)是对一系列*特的高聚物的一个通常的称呼。这个家庭中基本的成员称作Parylene，即聚对，是一种完全线性的高度结晶结构的材料。
派瑞林Parylene用*特的真空气相沉积工艺制备，由活性小分子在基材外观'生长'出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种外形的外观，包括尖锐的棱边，裂缝里和内外观。这种室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无针孔、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优秀的电绝缘性和防护性，是现代较有用的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。
派瑞林Parylene N是一种很好的介电材料，具有特别很是低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率转变的介电常数。它是所有Paryleng中穿透能力较高的一种。
派瑞林Parylene C是系列中*二个具有商业**的成员。它由雷同的单体系方式成，只是将其中一个芳香烃氢原子用一个氯原子所庖代了。Paryleng C将优秀的电性能，物理性能结合在一路，并且对于潮湿和其它腐蚀性气体具有低渗透性。除了可以提供真正的无针孔覆形隔离外，Paryleng C是涂敷紧张电路板的可以选择材料。
派瑞林Parylene D是系列中的*三个成员，它由雷同的单体系方式成，只是将其中两个芳香烃氢原子被氯原子庖代。Parylene D的性子与Parylene C相似，但是具有较高的耐热能力。
派瑞林Parylene HT（SCS）该材料具有较低的介电常数(即透波性能好)、好的稳固性和防水、防霉、防盐雾性能.短期耐温可达450摄氏度,长期耐温可达350摄氏度,并具有强的抗紫外线能力.较适合作为高频微波器件的防护材料.
DLC类金刚石减摩绝缘
二硫化钼MOS2镀层减摩导电
派瑞林Parylene N镀膜
镍铁氟龙Ni-P-PTFE
TiN 氮化钛
TiCN 碳氮化钛
TiAlN氮化铝钛
AlCrN氮化铬铝
CrN氮化铬
水下漆销售
陶瓷SiO2镀膜...
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2024-04-04
![二硫化钼MOS2镀膜磁控溅射]()
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4.00/个
- 产品简介：二硫化钼MOS2镀膜磁控溅射
二硫化钼MOS2镀膜磁控溅射
二硫化钼MOS2镀膜磁控溅射
?Lube620C-G于 20世纪80年代起源于实验室，后于2016年开始工业化批量生产，该纳米涂层技术适用于需要耐磨及润滑的产品，并将高润滑，高硬度，高精度三位一体的同时兼顾一定的防腐性，在大多数运动部件中有着出色的运用和效果。涉及工业4.0，**装备及半导体等众多企业也在积极开发其潜在性能用以提高自身产品性能，使得企业在快速的产品较迭中占据技术优势。
?较高工作温度: 500°C
?厚度:2-4um
?颜色：灰黑色
?摩擦系数: 0.05 to 0.09
?硬度: HV1400-2200
?粗糙度: 同等于产品基材表面粗糙度
?耐磨性:磨损率小于㎝3/Nm（5mm直径碳化钨小球，80N压力，470rpmφ8mm圆周运动30分钟）
?附着力：划痕粘结力大于120牛
?载荷性: 可应用于高载荷运动部件
二硫化钼MOS2镀膜磁控溅射
二硫化钼MOS2镀膜磁控溅射
二硫化钼MOS2镀膜磁控溅射...
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2024-04-04
![非平衡磁控溅射MOST二硫化钼高硬度]()
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50.00/件
- 产品简介：?Graphit-iC: Properties of coating: typical thickness 2.0-3.0μm; friction coefficient between 0.15 (typically 0.05 and 0.10) agait WC/Co ball; hardness H Plast. 1200kg/mm2, dark grey in colour; wear rate(SWR): 2.0E-16m3/Nm（WC-6%Co ball ?5mm, 80N test, ?8mm track, 477rpm, 30mi)
镀层的性质：一般厚度大约2.0-3.0 μm；摩擦系数小于 0.15。（典型为：0.05-0.10间）(agait WC/Co ball)；硬度Hp > 1,200kg/mm2 ；深灰黑色；划痕粘接力：大于60N；相对磨损率：2E-16 m3/Nm (WC-6%Co ball ?5mm, 80 N test ?8mm track, 477rpm, 200mms-1)。
?MoST (：MoS2基镀层)一般厚度大于1.0 μm；摩擦系数约为0.05 到 0.10之间(agait WC/Co ball)；在150kgf的洛氏硬度计压头压入，镀层不脱落（>HF2），硬度约 950-1050 VHN；深灰色；划痕粘接力：大于60N；相对磨损率：2E-16 m3/Nm (WC-6%Co ball ?5mm, 40 N test ?8mm track, 477rpm, 200mms-1)。...
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2024-04-04
![AD-HD41000防水防冲击涂层]()
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价格面议
- 产品简介：防水防冲击涂层 TDS
固含量99%以上，耐磨，防腐，防爆AD-HD41000系列涂层
VOC（挥发性**物）含量为零，固含量 199%以上。 防腐蚀：5000小时
为各类基底赋予优异的弹性体保护涂层，可在潮湿环境中对处理过的基底具有优异的粘接性能。
AD-HD41000系列涂层的高性能配方使其可以形成一层耐化学腐蚀和耐湿的防护层。...
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2024-04-04
![MOS2PVD磁控溅射]()
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4.00/个
- 产品简介：MOS2PVD磁控溅射
MOS2PVD磁控溅射
MOS2PVD磁控溅射
?Lube620C-G于 20世纪80年代起源于实验室，后于2016年开始工业化批量生产，该纳米涂层技术适用于需要耐磨及润滑的产品，并将高润滑，高硬度，高精度三位一体的同时兼顾一定的防腐性，在大多数运动部件中有着出色的运用和效果。涉及工业4.0，**装备及半导体等众多企业也在积极开发其潜在性能用以提高自身产品性能，使得企业在快速的产品较迭中占据技术优势。
?较高工作温度: 500°C
?厚度:2-4um
?颜色：灰黑色
?摩擦系数: 0.05 to 0.09
?硬度: HV1400-2200
?粗糙度: 同等于产品基材表面粗糙度
?耐磨性:磨损率小于㎝3/Nm（5mm直径碳化钨小球，80N压力，470rpmφ8mm圆周运动30分钟）
?附着力：划痕粘结力大于120牛
?载荷性: 可应用于高载荷运动部件
MOS2PVD磁控溅射
MOS2PVD磁控溅射
MOS2PVD磁控溅射...
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2024-04-04
![聚脲防水涂料用在了酸碱塔项目]()
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价格面议
- 产品简介：公司**弹性聚脲防水涂料用在了酸碱塔项目。本项目共5个酸碱塔，全部采用了红灰色的喷涂聚脲防水涂料进行防腐、防水处理。由于底材为模板浇注的混凝土，表面孔洞很多，因此先施工一道聚合物水泥砂浆进行找平。干燥后施工一道配套底漆，然后喷涂1.5mm的聚脲涂层。施工完后的涂层连续、无接缝，防水效果良好。
聚脲特性：
全部采用双组份，VOC（挥収性**化合物）含量为0，无污染；
?A/B组分通过与业设备喷涂，施工简便；
?粘接强度优异，适用于几乎所有材质；
?快速固化，可应用于立面及**面作业，避免流挂现象；
?防水性能优异，并可以耐受大部分溶剂和酸液；...
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2024-04-04
![DLC类金刚石镀膜 涂层加工 表面处理]()
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1.00/个
- 产品简介：二硫化钼，MOST，二硫化钼镀膜，DLC,派瑞林镀膜，水下漆应用
DLC类金刚石涂层(diamond like carbon, 简称DLC) 是一种在微观结构上含有金刚石成分的涂层。构成DLC的元素为碳。碳原子和碳原子之间的不同结合方式，使其较终产生不同的物质：金刚石(Diamond)-碳碳以sp3健的形式结合；类金刚石(DLC)-碳碳以sp3和 sp2健的形式结合；石墨(Graphite)-碳碳以sp2健的形式结合。
涂层种类包括：二硫化钼，MOST，二硫化钼镀膜，DLC,派瑞林镀膜，水下漆应用等。
??DLC涂层的特性：
由于含有金刚石成分，DLC具有很多优良的特性：高硬度-60GPa或Hv4800以上；低摩擦系数0.02；较好的膜层致密性；良好的化学稳定性以及良好的光学性能等。应用于上的DLC涂层所表现出的特殊性能远**过其它硬质涂层。涂以DLC的主要应用包括：石墨切削，各种有色金属（如铝合金，铜合金等）切削，非金属硬质材料（如亚克力，玻璃纤维，PCB材料）切削等。
DLC涂层的工业化生产开始于上世纪末和本世纪初，和普通的应用于模具上的硬质涂层（如TiN, TiAlN, CrN, TiCN等）相比是一种崭新的涂层技术。目前在世界范围内，能将这一技术很好应用的厂家也**。DLC是新一代硬质涂层技术和应用的典型代表以及发展方向。
涂层种类包括：二硫化钼，MOST，二硫化钼镀膜，DLC,派瑞林镀膜，水下漆应用等。...
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2024-04-04
![MOS2离子溅射 非平衡磁控溅射 表面处理]()
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50.00/件
- 产品简介：Introduction 介绍
?Lube620C-G于 20世纪80年代起源于实验室，后于2016年开始工业化批量生产，该纳米涂层技术适用于需要耐磨及润滑的产品，并将高润滑，高硬度，高精度三位一体的同时兼顾一定的防腐性，在大多数运动部件中有着出色的运用和效果。涉及工业4.0，**装备及半导体等众多企业也在积极开发其潜在性能用以提高自身产品性能，使得企业在快速的产品较迭中占据技术优势。
Performance 参数性能
?镀层工作温度范围: -190°C-500°C
?厚度:1-3um
?颜色：灰黑色有光泽
?摩擦系数: 0.05 to 0.09
?硬度: HV1400-2200
?导电性：导电
?粗糙度: 同等于产品基材表面粗糙度（此款镀层：希望镀层前素材Ra：0.4以下）
?耐磨性:磨损率小于㎝3/Nm（5mm直径碳化钨球，80N压力，470rpmφ8mm圆周运动30分钟）
?附着力：划痕粘结力大于120N
?载荷性: 可应用于高载荷运动部件
Application 应用
?低摩擦应用部件，齿轮，滑动摩擦等运动部件
?燃料喷射系统
?纺织缝纫零配件
?轴承和套圈
?挤压、冲压模具
?模料成型模，易拉罐喷涂模具防粘铝粉
?需要特殊保护的零件部位...
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2024-04-04
![MOS2气相沉积 二硫化钼高硬度 涂层加工]()
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50.00/件
- 产品简介：620C-G是热固化的以MoS2为基本成分，并且含有**粘结剂的固体润滑剂。620C-G可提供非常好的使用寿命，耐磨损性能佳，在高负荷应用场合中表现得尤为出色。620C-G符合MIL-L-8937D, MIL-L-46010E Ty 1标准，并满足AS-5272 Ty. 1的要求. 620C-G在包括航空**和医疗行业的各种市场中广受青睐。特点/优点不含铅成分 较好的使用寿命和化学稳定性良好的耐磨损性能 适用于高负荷应用场合市场 典型应用**航空/ 轴承、齿轮、齿条、凸轮医药行业 医疗仪器无油润滑机械行业 水力配件&阀门配件 密封，夹具和联结件?物理气相沉积，化学气相沉积，磁控溅射（PVD，CVD，PECVD）氮化钛TiN氮化铝钛TiAlN碳化钨WC氮化铬CrNDLC类金刚石镀膜派瑞林Parylene N二硫化钼MOS2?电镀及化学镀镀金镀银镀镍镀铬镍磷铁氟龙阳极氧化?传统喷涂工艺特氟龙PTFE系列二硫化钼MOS2系列陶瓷SiO2系列DLC类金刚石减摩绝缘二硫化钼MOS2镀层减摩导电派瑞林Parylene N镀膜镍铁氟龙Ni-P-PTFETiN 氮化钛TiCN 碳氮化钛TiAlN氮化铝钛AlCrN氮化铬铝CrN氮化铬水下漆销售陶瓷SiO2镀膜http:cvdpvd.b2b168.com...
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2024-04-04
![什么才能叫真正的聚*防爆涂料？]()
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价格面议
- 产品简介：什么才能叫真正的聚*防爆涂料？聚*含量必须大于99%以上，聚*可以耐强酸强碱的腐蚀，聚*喷涂完成以后3秒速干，防腐蚀盐雾时间：6000小时以上聚*涂料必须可以防辐射聚*固含量99%以上，耐磨，防腐，防爆AD-HD41000系列涂层VOC（挥发性**物）含量为零，固含量99%以上。 防腐蚀：5000小时为各类基底赋予优异的弹性体保护涂层，可在潮湿环境中对处理过的基底具有优异的粘接性能。AD-HD41000系列涂层的高性能配方使其可以形成一层耐化学腐蚀和耐湿的防护层。聚*防水防冲击涂层测试项目 聚*测试方法 聚*测试值邵氏硬度 D ASTM D2240 60±1摩擦系数 静态 ASTM D1894 0.305聚*动态0.127聚*聚*防水防冲击涂层聚*涂层近十年来在国外发展以适应环境保护需要，聚涂层具**械强度、耐磨性、耐腐蚀等故意综合性能，在工程领域得到了**和应用http:cvdpvd.b2b168.com...
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2024-04-04
![什么是DLC类金刚石镀膜及其特性]()
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2.00/个
- 产品简介：【什么是DLC类金刚石镀膜及其特性】DLC，类金刚石镀层，Diamond Like Carbon，高硬度镀层DLC镀层（DLC，类金刚石镀层，Diamond Like Carbon，高硬度镀层）是一种高硬度的镀膜层，已经开发有40多年的历史，金刚石的硬度在固体材料中较高，达HV100GPa，热导率为20W·cm-l·K-1，为铜的5倍，禁带宽度为5.47eV，室温电阻率高达1016Ω·cm，通过掺杂可以形成半导体材料。金刚石在从紫外到红外广阔频带里都有很高的光学透射率，它还是一种优良耐腐蚀材料。上海涓微在中国已经开发**过20年，开发的Diamond Like Carbon，结合多年的行业经验，开发的DLC类金刚石涂层在原有镀层硬度的基础上，增加了很大的润滑性，摩擦系数降低至0.05，硬度范围：Hv1200-6000均可，有些场合，不一定适合硬度太高的涂层，首先硬度太高，会导致镀层脆性增大，镀层容易开裂；其次，硬度太高，导致的应力过大。上海涓微DLC碳膜可以弥补所需的缺陷，在市场中，只有适用的才是好的。应用范围：各类高精度轴承，曲轴，活塞，活塞环等需要高耐磨润滑的应用场合。上海涓微还可提供包括但不**于：MOS2,二硫化钼，二硫化钨，特氟龙，镍特氟龙，碳纳米镀层，聚防爆防水涂层。 http:cvdpvd.b2b168.com...
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2024-04-04
![刻蚀机 NRE-4000M反应离子刻蚀 那诺-马斯特]()
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价格面议
- 产品简介：NRE-4000（M）反应离子刻蚀概述：NRE-4000是一款独立式RIE系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13'的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2'的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持大到12”的晶圆片。腔体为**净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或较小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。该系统是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-4000（M）反应离子刻蚀产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12”的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵至多支持8个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力支持：RIE以及PE刻蚀（可选）终点监测气动升降顶盖手动上下载片基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀NRE-4000（M） Features：Aluminum or Stainless Steel Chambetainless Steel CabinetCapable of etching Si compounds (~400 ? /min)and metalsTypical Si etch rate, 400 ?/minUp to 12“ Anodized RF PlatenWater Cooled and Heated RF PlatenLarge Self BiasShower Head gas distributionApproximay 10-6 Torr < 20 minutes, ~ 5 x10-7 Torr base pressureTurbomolecular PumpUp to eight MFCsNo flexing of gas linesDown Stream Pressure ControlDual Etch capability: RIE and Plasma Etch（Option）End Point DetectionPneumatically Lifted TopManual loading/unloadingPC Controlled with LabVIEWRecipe Driven, Password ProtectedFully Safety Interlocked Optional ICP source and cryogenic cooling of the platen for deep Si etchhttp:17317363700.b2b168.com...
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那诺-马斯特中国有限公司
2024-01-04
![刻蚀设备 NDR-4000A全自动DRIE深反应离子刻蚀 那诺-马斯特]()
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价格面议
- 产品简介：NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀概述：全自动上下载片，带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统，带8' ICP源。系统可以配套500L抽速的涡轮分子泵，可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的技术下，系统可以达到硅片的高深宽比刻蚀。NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀主要特点：基于PC控制的紧凑型立柜式百级DRIE深硅刻蚀系统，拥有高纵横比的刻蚀能力；配套Lab View软件，菜单驱动，自动记录数据；触摸屏监控；全自动系统，带安全联锁；四级权限，带密码保护；自动上下载片；带Load Lock预真空锁；He气背面冷却，-60摄氏度的低温样品夹具；高达-1000V的外部偏压；涡轮分子泵 + 涡旋干泵；可以支持DRIE和RIE两种刻蚀模式；实时显示真空、功率、反射功率图表，以及流量实时显示；配置内容：外观尺寸：紧凑型立柜式设计，不锈钢腔体，外观尺寸为28”(W) x 42”(L) x64”(H)；等离子源：NM ICP平面等离子源，带淋浴头气体分布系统。等离子源安装在腔体**部，通过ISO250的法兰连接；处理腔体：13”圆柱形铝质腔体，自动上下载片，至大支持6”（可以升级腔体支持较大基片）。腔体带有2”的观察窗口。腔体**部的喷嘴式气流分配装置，提供8”区域的气体均匀分布。系统带暗区保护。样品台：6”的托盘夹具，能够支持6”的Wafer。可以冷却到-120摄氏度（包含LN2循环水冷系统），并采用He气实现背部冷却和自动锁紧，微精细地控制He气流量，包含气动截止阀；流量控制：支持5个或更多的MFC’s 用于硅的深度刻蚀，带气动截止阀，所有的慢/快通道采用电磁阀和气动阀控制，电抛光的不锈钢气体管路带有VCR和VCO(压控振荡器)配件，所有导管以尽可能短的导轨密封设计，从而减低空间浪费并达到快速的气路切换。所有处理气体的管路在处理结束后，采用N2自动冲洗。真空系统：泵组包含涡轮分子泵和旋叶真空泵。RF电源：13.56MHz，带自动调谐功能的1000W射频电源，作为ICP源。另外，带自动调谐功能的600W射频电源用于基台偏压。操作控制：整个系统通过预装的Lab View软件和触摸监控系统，实现PC全自动控制。MFC,阀和顶盖都是气动式的，都可PC控制。系统的实时压力和直流自偏压以图表格式显示，而流量和功率则以字母数字形式显示。系统提供密码和安全连锁机制的四级权限控制。http:17317363700.b2b168.com...
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那诺-马斯特中国有限公司
2024-01-04
![ICP刻蚀 NRE-4000ICP刻蚀机 那诺-马斯特]()
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价格面议
- 产品简介：NRE-4000（ICPM）ICP刻蚀机概述：是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀工艺，包括刻蚀III-V化合物（如GaAs，InP，GaN，Ib）、II-VI化合物、介质材料、玻璃、石英、金属，以及硅和硅的化合物（如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe）等。NRE-4000（ICPM）ICP刻蚀机主要特点：基于PC控制的立柜式百级ICP-RIE刻蚀系统，拥有快速的刻蚀能力；配套Lab View软件，菜单驱动，自动记录数据；触摸屏监控；全自动系统，带安全联锁；四级权限，带密码保护；手动上下载片；可以支持ICP和RIE两种刻蚀模式；实时显示真空、功率、反射功率图表，以及流量实时显示；NRE-4000（ICPM）配置内容：外观尺寸：紧凑型立柜式设计，不锈钢腔体，外观尺寸为44”(W) x 26”(L) x62”(H)；等离子源：NM-ICP平面电感耦合等离子体源，带有自动调谐器，激活面积可以达到8”；处理腔体：13”的圆柱形**净腔体，材质为阳极电镀铝。晶片通过气动顶盖装载，腔体带有上载安全锁，用户可以通过PC控制，至多可以装载8个小尺寸基片，可支持的晶圆尺寸为8”。腔体带有2”的观察窗口。腔体**部的喷嘴式气流分配装置，提供8”区域的气体均匀分布。系统带暗区保护。样品台：6”的托盘夹具，能够支持6”的Wafer。可以冷却到-120摄氏度（包含LN2循环水冷系统），并采用He气实现背部冷却和自动锁紧，微精细地控制He气流量，包含气动截止阀；流量控制：支持6个或更多的MFC’s 用于ICP高速刻蚀，带气动截止阀，所有的慢/快通道采用电磁阀和气动阀控制，电抛光的不锈钢气体管路带有VCR和VCO(压控振荡器)配件，所有导管以尽可能短的导轨密封设计，从而减低空间浪费并达到快速的气路切换。所有处理气体的管路在处理结束后，采用N2自动冲洗。真空系统：泵组包含涡轮分子泵和旋叶真空泵。RF电源：13.56MHz，带自动调谐功能的1200W射频电源，作为ICP源。另外，带自动调谐功能的600W射频电源用于基台偏压。操作控制：整个系统通过预装的Lab View软件和触摸监控系统，实现PC全自动控制。MFC,阀和顶盖都是气动式的，都可PC控制。系统的实时压力和直流自偏压以图表格式显示，而流量和功率则以字母数字形式显示。系统提供密码和安全连锁机制的四级权限控制。NRE-4000（ICPM）应用领域：LEDMEMS光栅激光器微光学声光器件高频器件/功率器件**器件光子晶体探测器等http:17317363700.b2b168.com...
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2024-01-04
![离子束刻蚀机 NIE-4000A全自动IBE离子束刻蚀 那诺-马斯特]()
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价格面议
- 产品简介：NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时，旋转晶圆片以达到想要的均匀度。NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品特点：14.5”不锈钢立体离子束腔体16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板离子束中和器氩气MFC6”水冷样品台晶片旋转速度3、10RPM，真空步进电机步进电机控制晶圆片倾斜自动上下载晶圆片典型刻蚀速率：铜200 ?/min, 硅：500 ?/min6”范围内，刻蚀均匀度+/-3%极限真空5x10-7Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别（配套500 l涡轮分子泵）配套1000 l涡轮分子泵，极限真空可达8x10-8Torr磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完整的安全联锁http:17317363700.b2b168.com...
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那诺-马斯特中国有限公司
2024-01-04
![等离子体刻蚀 NRE-4000型RIE-PE刻蚀机 那诺-马斯特]()
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价格面议
- 产品简介：NRE-4000型RIE-PE刻蚀机概述：NRE-4000是一款独立式PE刻蚀RIE刻蚀一体机，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13'的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口：一个带有2'的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12'的晶圆片。腔体为**净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或较小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。NRE-4000型RIE-PE刻蚀机是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-4000型产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜支持各向同性刻蚀和各向异性刻蚀两种模式能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12'的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大的自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵NRE-3000至多支持4个MFC，NRE-4000至多支持8个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力：RIE以及PE刻蚀(可选)终点监测气动升降顶盖手动或自动上下载片预真空锁基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀NRE-4000RIE反应离子刻蚀机产品型号：NRE-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统，占地面积26“D x 44'WNRE-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统，占地面积26“D x 26'WNRE-3000：基于PC计算机全自动控制的台式系统，占地面积26“D x 26'WNRP-4000：RIE/PECVD双系统NDR-4000：深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统http:17317363700.b2b168.com...
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那诺-马斯特中国有限公司
2024-01-04
![干法刻蚀机 NIM-4000M离子铣刻蚀系统 那诺-马斯特]()
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- 产品简介：NIM-4000（M）离子铣刻蚀系统产品概述：利用离子束轰击固体表面的溅射作用，剥离加工各种几何图形，通过大面积离子源产生的离子束，可对固体材料溅射刻蚀，对固体器件进行微细加工。该系统为全自动上下载片，计算机全自动控制的系统。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时，旋转晶圆片以达到想要的均匀度。NIM-4000（M）离子铣刻蚀系统产品特点：14.5”不锈钢立体离子束腔体16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板离子束中和器氩气MFC6”水冷样品台晶片旋转速度3、10RPM，真空步进电机步进电机控制晶圆片倾斜自动上下载晶圆片典型刻蚀速率：铜200 ?/min, 硅：500 ?/min6”范围内，刻蚀均匀度+/-3%极限真空5x10-7Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别（配套500 l涡轮分子泵）配套1000 l涡轮分子泵，极限真空可达8x10-8Torr磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完整的安全联锁http:17317363700.b2b168.com...
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2024-01-04
![MOCVD设备 NMC-4000A全自动PAMOCVD系统 那诺-马斯特]()
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- 产品简介：NMC-4000（A）全自动PAMOCVD系统概述：NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属**化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250lec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制，完全的安全互锁。目前，这项技术延伸到5个4'晶圆的立柜式独立批处理系统，该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。NMC-4000（A）全自动PAMOCVD系统应用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)特点：独立系统14”不锈钢立方体腔体1次在8”样品台上处理1个6”晶圆片或在12”样品台上处理5片4”片子加热的气体管路RF等离子源，自动调谐淋浴头气体分布1100°C的旋转样品台N2冲洗全自动上下载片可以兼容到集群配置中http:17317363700.b2b168.com...
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2024-01-04
![ald原子层沉积 NLD-3000原子层沉积系统 那诺-马斯特]()
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- 产品简介：NLD-3000原子层沉积系统概述：原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远**过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。NLD-3000原子层沉积系统特点：NLD-3000是一款独立的PC计算机控制的ALD，带Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计，并提供了强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等。NLD-3000系统提供12”的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖，非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。NLD-3000选配：NLD-3000系统的选配项包含自动L/UL上下载(用于6”基片)，ICP离子源(用于等离子增强的PEALD)，臭氧发生器，等等。NLD-3000应用：Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3，etcNitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..Photovoltaic and MEMS applicatio光伏及MEMS应用.Nano laminates纳米复合材料http:17317363700.b2b168.com...
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2024-01-04
![等离子刻蚀机 NPC-4000A全自动等离子去胶机 那诺-马斯特]()
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- 产品简介：NPC-4000(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)概述：NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。NPC-4000(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)产品特点：紧凑型立式系统自动上下载片带Load Lock不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔兼容100级**净间使用淋浴头、ICP或微波等离子源旋转样品台RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台全自动或手动RF调谐z多可支持8个MFC带电抛光的气体管路PC计算机控制的气动阀带密码保护的多级访问控制基于LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁应用：**物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性，消除键合问题塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面http:17317363700.b2b168.com...
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2024-01-04
