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气相沉积设备产品信息

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NMC-4000MOVPE设备 那诺-马斯特

NMC-4000MOVPE设备 那诺-马斯特

价格面议
产品简介:MOVPE设备概述: MOVPE,也就是大名鼎鼎的MOCVD(金属**物化学气相沉积), 针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属**化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有加热的气体管路、5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、950度样品台三个气体环、PC全自动控制、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、 250lec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空),完全的安全互锁。 目前,NANO-MASTER(那诺-马斯特)的这项技术延伸到5个4'晶圆的立柜式独立批处理系统,该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。MOVPE设备型号:台式系统5个带独立冷却槽的起泡器加热的气体管路950 °C样品台,2'晶圆片3个气体环RF等离子源,带淋浴头气体分布工艺完成后N2自动冲洗极限真空5x10-7Torr250 l的涡轮分子泵串接无油干泵通过LabView软件实现PC计算机全自动控制菜单驱动,4级密码访问控制完整的安全联锁 配置:独立系统14'不锈钢立方体腔体1次在8'样品台上处理1个6'晶圆片或在12'样品台上处理5片4'片子加热的气体管路RF等离子源,自动调谐淋浴头气体分布1100°C的旋转样品台N2冲洗手动或自动的晶圆片上下载可以兼容到集群配置中应用:3到5族半导体层蓝色发光二极管激光二极管紫外-可见光谱光电中的氮化铟纳米棒3D或2D材料中的二硫化钼、氮化硼、石墨烯http:17317363700.b2b168.com...
那诺-马斯特中国有限公司
2024-01-04
plasma等离子清洗机 NPC-3500A全自动等离子去胶机 那诺-马斯特

plasma等离子清洗机 NPC-3500A全自动等离子去胶机 那诺-马斯特

价格面议
产品简介:NPC-3500(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)概述:NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。NPC-3500(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)产品特点:紧凑型立式系统自动上下载片带Load Lock不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔兼容100级**净间使用淋浴头、ICP或微波等离子源旋转样品台RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台全自动或手动RF调谐z多可支持5个MFC带电抛光的气体管路PC计算机控制的气动阀带密码保护的多级访问控制基于LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁应用:**物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面http:17317363700.b2b168.com...
那诺-马斯特中国有限公司
2024-01-04
原装进口清洗机 SWC-3000兆声晶圆掩模版清洗机 那诺-马斯特

原装进口清洗机 SWC-3000兆声晶圆掩模版清洗机 那诺-马斯特

价格面议
产品简介:SWC-3000兆声晶圆(掩模版)清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍**样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的z大化支持z理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以*节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。SWC-3000兆声晶圆(掩模版)清洗机应用:带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及较紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺特点:台式系统无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干支持12”直径的圆片或9”x9”方片微处理机自动控制IR红外灯选配项:掩模版或晶圆片夹具PVA软毛刷清洗化学试剂清洗(CDU)氮气离子发生器http:17317363700.b2b168.com...
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2024-01-04
进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机 那诺-马斯特

进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机 那诺-马斯特

价格面议
产品简介:SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于**的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到优化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍**样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的z大化支持z理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以*节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术,系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升,从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去,而把回附的数量降到了z低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势,**的静态可循环兆声清洗槽会有较大数量的颗粒回附,并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外,NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了**物的去除,而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用,某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以z低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成,具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版**的对准标记,降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外,带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备,并且很容易安装在空间有限的**净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力,并可用于非常广泛的基片。SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机应用:湿法刻蚀带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及较紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机特点:机械手全自动上下载片支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机选配项:多系统集成掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器http:17317363700.b2b168.com...
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2024-01-04
晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统 那诺-马斯特

晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统 那诺-马斯特

价格面议
产品简介:LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍**样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的z大化支持z理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。LSC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以*节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术,系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升,从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去,而把回附的数量降到了z低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势,的静态可循环兆声清洗槽会有较大数量的颗粒回附,并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外,NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了**物的去除,而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用,某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以z低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成,具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版**的对准标记,降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外,带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统应用:光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带图案/不带图案的掩模版LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统特点:支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面手动上下载片安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统选配项:化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水(20ppm的O3)氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜机械手上下载片,带EFEM以及SMIF界面http:17317363700.b2b168.com...
那诺-马斯特中国有限公司
2024-01-04
进口晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统 那诺-马斯特

进口晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统 那诺-马斯特

价格面议
产品简介:LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到*化的清洗效果,兆声能量的密度必须保持在稍稍**样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面,通过分布能量的z大化支持z理想的清洗,同时保证在样片的损伤阈值范围内。LSC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力,这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统,可以*节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力,提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术,系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升,从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去,而把回附的数量降到了z低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势,的静态可循环兆声清洗槽会有较大数量的颗粒回附,并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外,NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了**物的去除,而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用,某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。LSC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以z低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成,具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版**的对准标记,降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外,带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统应用:光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统特点:支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片,带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项:化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水(20ppm的O3)氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜http:17317363700.b2b168.com...
那诺-马斯特中国有限公司
2024-01-04
离子源清洗 NIE-3500A全自动离子束清洗系统 那诺-马斯特

离子源清洗 NIE-3500A全自动离子束清洗系统 那诺-马斯特

价格面议
产品简介:NIE-3500(A)全自动离子束清洗系统产品概述:该系统为全自动上下载片,并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。NIE-3500(A)全自动离子束清洗系统产品特点:低成本带预真空锁,自动上下载片离子束:高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径:4',5',6'兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l涡轮分子泵,串接500 l/min干泵14'不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片(NIE-3500)基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30'x30'NIE-3500(A)全自动离子束清洗系统产品应用:表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀: 光栅刻蚀,以及SiO2,Si和金属的深槽刻蚀http:17317363700.b2b168.com...
那诺-马斯特中国有限公司
2024-01-04
微电机马达转子parylene真空镀膜绝缘防水加工

微电机马达转子parylene真空镀膜绝缘防水加工

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产品简介:Parylene涂层,属高绝缘性、无针孔、膜厚一致性的耐电击薄膜。其防尘、防潮、防水的耐透气性效果,可使产品达到*性防尘、防水的IP等级规范(*注1)。例,可使马达组、定子、转子达到*级防尘、防水的IP5.5规范(*注1);对硅钢片的耐压及防线伤或NB电池回路基板,抗电解液腐蚀等都有其显着的成效。...
东莞市一悦纳米科技有限公司
2022-06-04
LED模组灯条parylene真空镀防水加工

LED模组灯条parylene真空镀防水加工

价格面议
产品简介:LED显示屏类产品 Parylene涂层,具有耐腐蚀性、*好的防潮性、高绝缘强度,是无色高透明度膜层,可对交通道路、户外广场、机场、车站等场所及潮湿恶劣环境、户外环境所使用的LED显示屏*好的防护,可达到*IP规范IP55~IP68(*注1)相应等级要求。Parylene涂层膜可比传统的灌胶方式降低产品的重量及体积以减少产品支架的成本、*好的散热性、符合*环保要求、不易龟裂、使用中可更换产品上损坏的零件等优点。可使LED具有防潮、防水、耐酸碱等功能...
东莞市一悦纳米科技有限公司
2022-06-04
中试型石墨化炉

中试型石墨化炉

价格面议
产品简介:产品简介:常用于3000℃以内的各种碳材料的碳化和石墨化实验、中试生产。 碳素材料的碳化,石墨化及其它可在碳环境下烧结和熔炼的材料。 常用于处理电池材料、石墨改性,制备高模量纤维等。 较高使用温度:3000℃,常用温度2800℃。 温度均匀度:≤±15℃;控温精度:±1℃。 工作气氛:真空置换Ar2 保护(微正压)。 温度测量:红外光学测温,测温范围1000~3000℃; 测温精度:0.3%。 全面的PLC水、电、气自动控制和保护系统。...
株洲远航工业炉科技有限公司
2022-06-04
卧式高温碳化炉

卧式高温碳化炉

价格面议
产品简介:产品简介:特点: *采用多温区独立控温,温度均匀性好; *可选配外循环快冷系统,单炉生产周期短; *可实现正压或负压碳化工艺; *对碳化过程产生的焦油、粉尘、尾气等能进行有效处理。 *可选用新型真空泵组,解决焦油卡泵问题。 *触摸屏直观的显示各种运行参数数据,完善的报警和闭锁停机保护装置,水电气全自动控制,操作轻松简便。 *电源柜采用全密封结构,机柜自带水冷和风冷散热器,不与外界空气发生热交换。 ***的控温系统,采用进口数显化智能温控表,可与PLC实现数据通讯,全自动**完成测温控制过程,全中文温度输入控制,告别繁琐的仪表温度曲线输入,系统可按给定升温曲线升温,并可贮存二十条共400段不同的工艺加热曲线。...
株洲远航工业炉科技有限公司
2022-06-04
卧式量产型高温石墨化炉

卧式量产型高温石墨化炉

价格面议
产品简介:产品简介:常用于3000℃以内的各种碳材料的碳化和石墨化规模化生产。 碳素材料的碳化,石墨化及其它可在碳环境下烧结和熔炼的材料。 常用于处理电池材料、石墨改性,制备高模量纤维等。 与立式炉比较,炉型*大,进出料*方便,对厂房高度要求低,不需安装行车。 较高使用温度:3000℃,常用温度2800℃。 温度均匀度:≤±15℃;控温精度:±1℃。 工作气氛:真空置换Ar2 保护(微正压)。 温度测量:红外光学测温,测温范围1000~3000℃; 测温精度:0.3%。 全面的PLC水、电、气自动控制和保护系统。...
株洲远航工业炉科技有限公司
2022-06-04
中频控制电源

中频控制电源

价格面议
产品简介:产品简介:全数字恒功率控制,具有高控制精度和可靠性。 电压电流双闭环控制,确保系统稳定可靠运行。 完善的保护系统,具有过流、过压、缺相、水压不足、水温过高等 各种保护,确保设备在发生故障时不损坏元器件。 高功率因数运行特性,整套设备的效率和功率因数达到较高值运行。  完善的外控接口:可以方便地实现外部监控和温度闭环。 负载适应性强,启动性能好,排除了启动失败地问题。 整机结构合理,平均无故障时间长,易维护和操作。...
株洲远航工业炉科技有限公司
2022-06-04
IGBT中频电源

IGBT中频电源

价格面议
产品简介:产品简介:逆变部分采用**的IGBT晶体管。不产生高次谐波,不污染电网,不影响变电所无功补偿电容器的运行,不会使变压器发热。不会干扰工厂内的电子设备运行。  使用可节能20%以上。运行可靠性高。电路结构简洁,保护齐全,具备完备的故障显示功能,能迅速找到故障点,维修方便。...
株洲远航工业炉科技有限公司
2022-06-04
*高温抗热冲击实验设备

*高温抗热冲击实验设备

价格面议
产品简介:产品简介:*高温抗热冲击实验设备,是应用于2800度的热冲击实验设备,高温冷热冲击试验箱是金属、塑料、橡胶、电子等材料行业的测试设备,用于测试材料结构或复合材料,在瞬间下经*高温及*低温的连续环境下忍受的程度,得以在较短时间内检测试样因热胀冷缩所引起的化学变化或物理伤害。冷热冲击试验箱满足的试验方法:GB/T2423.1.2、GB/T10592-2008、GJB150.3高低温冲击试验。...
株洲远航工业炉科技有限公司
2022-06-04
电阻加热式高温碳化硅烧结炉

电阻加热式高温碳化硅烧结炉

价格面议
产品简介:用途: ? ?用于碳化硅材料真空反应烧结。 ? 特点: ? 1、碳化硅烧结炉是生产碳化硅材料的关键设备,经该设备反应烧结的碳化硅产品,具有优良的工艺性能。产品力度均匀,反应、化合含量高、质量好;配有脱蜡系统,强化脱蜡效果,炉内气氛*稳定;延长了碳毡及发热材料的使用寿命。采用阻性或感应加热,石墨管发热体寿命长,加热效果好,维护方便。 ? 2.单室,卧式结构,前开门或前后双开门,操作简单便捷。设备布置紧凑合理,占地面积小。 3.炉体高温段冷却采用自然冷却,低温段冷却可通过充正压惰性气体,加快冷却速度。少见设计炉体防爆阀,安全可靠。 4.较高使用温度:1800℃、2500℃,工作气氛:氢气、氮气、惰性气体,温度测量:远红外线光学测温,测温范围800~2400℃或0~2400℃;测温精度0.2~0.75%。 5、均匀的加热、可靠的隔热及测温系统,**炉膛设计理念,合理的加热结构,**的材料,保证真空状态下炉温的均匀性。采用国内和***测温元件,保证测温的**度。**的控温系统,进口数显化智能温控表,可与PLC现实数据通讯,全自动**完成测温控温过程,系统可按给定升温曲线升温,并可贮存四条40段不同的工艺加热曲线。 ? 单室,卧式结构,前开门或前后双开门,操作简单便捷。设备布置紧凑合理,占地面积小。 ? **的自动化控制,全面的PLC水、电、气自动控制和保护系统,PLC实现安全连锁,具有*温、传感器断偶、水压、炉体*压、水流量、水温过高等声光报警。环保、节能、无净化精华真空排放气体,有效保护真空泵运转正常以及优良的脱焦效果。 ?...
株洲远航工业炉科技有限公司
2022-06-04
Best DLC涂层加工服务

Best DLC涂层加工服务

价格面议
产品简介:东莞市百意实业有限公司是一家*硬质**DLC涂层服务企业,成立于2017年,注册资金1000万元,是一家以高新技术开发为主要支点的科技公司,是一家全球良好的硬质涂层产品提供商。现有自主开发类金刚石薄膜(DLC)产品Best ? 涂层,是一种非晶态碳素薄膜,由于具有高硬度和高弹性模量,低摩擦系数,**损以及良好的耐摩擦特性,很适合作为**涂层。公司倾力打造的Best ?涂层产品主要应用在汽车零部件、人体植入生物部件、中**钟表首饰配件、以及各种五金塑胶模具及配件,经我司Best ? 涂层处理后的产品,可以大大提高产品使用寿命,硬度高,**性优异,涂层表面润滑系数较低,Best ?涂层综合性能比PVD涂层具有非常大的优势。 我们拥有一支年轻、敏锐、朝气蓬勃、志向远大的科技研发团队。我们秉承*、敬业、激情、**的发展理念,坚持以客户为本、以信用为先的服务准则,以过硬的Best ?涂层技术开发的优势,用心解决客户较迫切、较实际的需求,以**的产品、**的技术为客户提供较**的服务。...
东莞市百意实业有限公司
2022-06-04
卷绕式真空镀膜机氧化物ITO真空电镀设备磁控溅射卷绕式镀膜设备

卷绕式真空镀膜机氧化物ITO真空电镀设备磁控溅射卷绕式镀膜设备

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产品简介:卷绕式真空镀膜机氧化物ITO真空电镀设备磁控溅射卷绕式镀膜设备 常见的真空卷绕镀膜设备按其工作原理可分为:蒸发卷绕镀膜、磁控溅射卷绕镀膜和组合式卷绕镀膜。 服务热线: 136-0017-9826(手--机)胡经理 官-网: 企业视频地址/v_show/id_XMTU0OTkwNzEwNA==.html?from=y1.7-1.2 蒸发式卷绕镀膜设备根据蒸镀工艺可分为连续式、半连续式和间歇式三种,因设备结构不同还可分为:单室、双室和多室卷绕镀膜设备。主要用于塑料、布、纸、钢带等带状材料表面真空蒸镀薄膜,作为食品的金属化包装材料、反光材料、保温隔热材料、表面装潢材料、电气材料以及各种标识、标签、商标等装饰材料。广泛用于包装、装潢、印刷、纺织、食品、防伪、卷烟、电子工业等领域。? 磁控溅射卷绕镀膜机工作原理与特点:采用磁控溅射(直流、中频、射频)方法把各种金属、合金、化合物、陶瓷等材料沉积到柔性基材上,进行单层或多层镀膜。...
深圳市万美真空科技有限公司
2022-06-04
玻璃陶瓷真空镀膜机 多弧离子真空镀膜设备镀金镀钛炉

玻璃陶瓷真空镀膜机 多弧离子真空镀膜设备镀金镀钛炉

价格面议
产品简介:玻璃陶瓷真空镀膜机 多弧离子真空镀膜设备镀金镀钛炉 钛金陶瓷,利用较**的真空离子镀技术处理常规各类陶瓷表面,使之色泽光亮,雍容华贵,充满现代豪华金属质感,已成为装修业的新宠!色系丰富多样,坚固**,色泽稳定,膜层均匀,可保证20年**。颜色种类齐全:钛金(金黄色)、锆金、银白色、黑金(IPB)、玫瑰金(IPR)、古铜、七彩、香槟金、宝石蓝等颜色。...
深圳市万美真空科技有限公司
2022-06-04
保修一年的全新真空镀膜机 质优**的广东货真空镀膜设备

保修一年的全新真空镀膜机 质优**的广东货真空镀膜设备

价格面议
产品简介:保修一年的全新真空镀膜机 质优**的广东货真空镀膜设备 公司长期与行业技术合作,参与真空行业协会研究,在充分的理论知识和成熟实践经验 的基础上才把新产品投入市场。公司拥有一支、精良的技术力量队伍,开发能力强大,采用CAD三维立体设计系统进行产品开发,使产品的研发工作**、、品质优良。以膜层研究指导镀膜设备的开发,使产品技术性能上始终保持着良好地位。 公司服务方式为交钥匙工程:包括膜层研究、设备研发设计、制造、安装、调试、试生产、人员培训。公司拥有完善的售后服务网络及经验丰富的售后服务人员,为客户解决真空设备及工艺的各种疑难问题。 公司拥有独立完善的研发体系及生产制造体系,从膜层及镀膜设备研发、方案设计、零件制造到设备的总装、调试,全部由公司自行完成。生产的每一个环节均受到公司质量管理系统的全面管控。 目前产品**东南亚、欧洲、中东、韩国、南美洲等国家。本着振兴、强国强民的态度为祖国做出贡献 公司主要产品: 真空电镀机,真空镀膜机,电阻蒸发真空镀膜机,硬质膜涂层镀膜机,多弧离子镀膜设备,DLC类金刚石镀膜机,电子束光学镀膜机,高温热泵工程,金属涂层设备、真空配件,镀膜材料,磁控溅射镀膜机,真空设备保养、维修,卷绕式真空电镀机,小型真空镀膜设备,UV喷油设备,UV光固机,超声波清洗机,高温烤箱,冷却水系统等。...
深圳市万美真空科技有限公司
2022-06-04
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